CX4-230 磁粉探傷標(biāo)準(zhǔn)試片
上海雙旭CX4-230磁粉探傷標(biāo)準(zhǔn)試片產(chǎn)品參數(shù)
1. 試片類型：屬于A型標(biāo)準(zhǔn)試片，是磁粉探傷領(lǐng)域常用的靈敏度試片，符合JB/T 6065-2004等相關(guān)行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)；
2. 規(guī)格參數(shù)：試片厚度為0.05mm，槽深分為20μm、30μm兩種，對應(yīng)型號中的“230”標(biāo)識；試片主體尺寸一般為20mm×20mm，帶有便于夾持的延伸柄；
3. 材質(zhì)構(gòu)成：采用低碳鋼材質(zhì)基底，表面通過精密加工制作出標(biāo)準(zhǔn)深度的人工缺陷槽，確保磁粉探傷時的缺陷顯示一致性；
4. 靈敏度等級：可檢測出工件表面及近表面微小缺陷，對應(yīng)探傷靈敏度等級較高，適用于軸承、齒輪、高強度緊固件等精密工件的探傷檢測；
5. 適用檢測方式：兼容濕法、干法磁粉探傷工藝，可配合直流磁化、交流磁化、復(fù)合磁化等多種磁化方式使用。
上海雙旭CX4-230磁粉探傷標(biāo)準(zhǔn)試片使用注意事項
1. 試片存儲：需放置在干燥、無腐蝕的環(huán)境中，避免磕碰劃傷表面缺陷槽，同時遠(yuǎn)離強磁場環(huán)境，防止試片被磁化影響后續(xù)使用精度；
2. 表面預(yù)處理：使用前需清理試片表面的油污、銹跡及磁粉殘留，可用無水乙醇擦拭，確保試片與被測工件表面緊密貼合，貼合面間隙不超過0.05mm；
3. 磁化操作：磁化過程中，試片應(yīng)與被測工件同時磁化，注意控制磁化電流強度，避免因磁化過度導(dǎo)致試片磁飽和，影響缺陷顯示效果；
4. 磁粉施加：濕法探傷時，磁懸液應(yīng)均勻噴灑在試片表面，避免直接沖擊試片導(dǎo)致缺陷槽內(nèi)磁粉流失；干法探傷時，磁粉應(yīng)輕柔涂抹，確保均勻覆蓋；
5. 結(jié)果判定：觀察缺陷顯示時，需在充足自然光或?qū)I(yè)探傷光源下進行，若試片的標(biāo)準(zhǔn)缺陷槽清晰顯示連續(xù)磁粉線條，說明探傷靈敏度符合要求，若顯示不清晰，需檢查磁化參數(shù)、試片貼合度等環(huán)節(jié)；
6. 重復(fù)使用限制：試片表面缺陷槽出現(xiàn)磨損、變形或磁化后難以退磁時，應(yīng)及時更換，避免影響探傷結(jié)果準(zhǔn)確性；
7. 退磁處理：使用完畢后，需對試片進行退磁處理，退磁后用磁強計檢測，確保剩余磁場強度符合標(biāo)準(zhǔn)要求，再進行收納保存。 |
